双振动盘四面外观检测机——双站并行,单头速度180K PH
来源: | 作者:标谱半导体 | 发布时间: 2026-08-19 | 2 次浏览 | 🔊 点击朗读正文 ❚❚ | 分享到:

双振动盘四面外观检测机——双站并行,单头速度180K PH


在贴片式LED、被动元件及半导体等规则材料的四面外观检测中,如何在不牺牲精度的前提下实现产能倍增?标谱半导体双振动

盘四面外观检测机给出了答案,双工作站模式,单头运行速度达180K PH。


该设备采用双轨道入料、双工作站并行的设计架构,既大幅提升了生产效率,也可对检测项目进行灵活定制。设备由标谱自主研

发的运动控制卡控制,具有运行稳定、速度快、可靠性高、功耗低等优点。


在工作流程上,高速振动盘运送材料经真空导料机构输送至光纤检测位,再经过相机镜头处采集材料四面高清影像。检测软件由

标谱自主研发,具备深度学习功能,可根据客户需求增加或修改检测功能。运动控制系统对各输入信号进行运算和处理,实现对

输出执行机构的实时控制。


分选环节采用高速吹气模块配合多Bin料盒站,将对应缺陷的材料吹入对应的料盒,实现分类收集。双振动盘四面外观检测机以双

站并行的创新架构和自主研发的核心控制系统,为规则材料的外观检测提供了效率与精度兼得的解决方案。


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